Basisprincipe :Een fotoresist met een patroon wordt in nauw contact met een vlak oppervlak geplaatst. Een druppel vloeistof wordt in contact gebracht met de fotoresist, en de druppel zuigt zichzelf spontaan op door de capillaire kanalen om het onderliggende oppervlak te bevochtigen. De vloeistof laat patroonkenmerken achter die identiek zijn aan het resistpatroon. De kenmerken hebben een variabele hoogte, gedefinieerd door de dikte van de fotoresist.
Voordelen:
-afdrukken met hoge resolutie
- veelzijdig en geschikt voor diverse materialen
- goede reproduceerbaarheid en batch-tot-batch uniformiteit
- lage kosten en eenvoudig fabricageproces
Toepassingen :
- organische veldeffecttransistors
- organische lichtgevende diodes
- metalen nanodraden
- kwantumdots