Principio fondamentale :Un fotoresist modellato è posto in intimo contatto con una superficie planare. Una goccia di liquido viene posta a contatto con il fotoresist e la goccia si imbeve spontaneamente attraverso i canali capillari per bagnare la superficie sottostante. Il liquido lascia caratteristiche modellate identiche al modello resist. I tratti sono di altezza variabile, definita dallo spessore del fotoresist.
Vantaggi:
-stampa ad alta risoluzione
- versatile e adatto a una vasta gamma di materiali
- buona riproducibilità e uniformità tra lotti
- basso costo e processo di fabbricazione semplice
Applicazioni :
- transistor organici ad effetto di campo
- diodi organici emettitori di luce
- nanofili metallici
- punti quantici